nr9 3000py光刻胶公司-赛米莱德公司

提供---化学技术的多样化解决方案

成立于1985年，nr9 3000py光刻胶厂家，总部设在美国新泽西州，富兰克林市，高速成长并超过20年连续盈利的跨国公司

公司业务覆盖范围包括北美，亚太以及欧洲

基于多样化的技术

应用领域：微电子、光电子、led、太阳能光伏、微机电系统、生物芯片、微流体、平面印刷

解决方案：的光刻胶、掺杂涂层、平坦化涂层、旋制氧化硅(spin-onglase)。阻挡层(barrior layere)、湿法制程

客户：从---100强到以风险投资为背景的设备研发及制造公司

使命

目标

提供特殊化学品和全新工艺来增加客户的产能

策略

提供的产品来优化生产制程，以提高设备能效

领的技术提升生产过程中的整体

工艺步骤的减少降低了成本和产生瑕疵的可能

增加客户的产能和生产的效率

工艺减化

非同寻常的显微构造、金属及介电层上的图形转换、光刻、平坦化、掺杂、蚀刻、邦定

在生产过程中，不含有害溶剂

支持所有客户的需要，与客户共创成功

nr9-3000py 负性光刻胶

负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线（365 nm）---，nr9 3000py光刻胶公司，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

和接触式光刻等工具。

显影之后，nr9-3000py 展现出一种倒梯形侧壁，这可以方便地作单纯的lift-off 处理。

nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

lift-off工---

應用領域：leds，oleds，nr9 3000py光刻胶多少钱，displays，mems，packaging，biochips。

濕法蝕刻，鍍 干法蝕刻（rie/ion milling/ion implantation）

附着力好temperature resistance = 100°c 耐高溫temperature resistance = 180°c

resist thickness nr9-3000py 负性光刻胶

负胶 nr9-3000py 被设计用于i 线（365

nm）---，可使用如步进光刻、扫描投影式光刻、接近式光刻

和接触式光刻等工具。

显影之后，nr9-3000py 展现出一种倒梯形侧壁，这可以方便地作单纯的lift-off 处理。