四、对准（alignment）
光刻对准技术是---前的一个重要步骤作为光刻的三大技术之一，一般要求对准精度为
受光刻分辨力提高的推动 ，对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ，对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ，包括视频图像对准、双目显微镜对准等，nr9 3000p光刻胶报价，一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。从对准信号--- ，主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。
30．想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求，进口的有没有比较好的光刻胶啊？
但是futurre 光刻胶在国外是比较有名气的，nr9 3000p光刻胶，包括很多大型企业都有用，膜厚做的也
比较厚从18um-200um都 可以做到，看你对工艺的要求了。
光刻胶品牌futurre光刻胶产品属性：
1 futurre光刻胶产品简要描述及优势:
1.1 futurre光刻胶黏附性好，无需使用增粘剂（hmds）
1.2 负性光刻胶常温下可保存3年
1.3 150度烘烤，缩短了烘烤时间
1.4 单次旋涂能够达到100um膜厚
1.5 显影速率快，100微米的膜厚，仅需6~8分钟
发展
futurrex在开发产品方面已经有很长的历史
我们的客户一直在同我们共同合作，创造出了很多---的产品。
在晶体管(transistor) ，封装，微机电。显示器，oleds，波导(waveguides) ，vcsels，
成像，nr9 3000p光刻胶价格，电镀，nr9 3000p光刻胶，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。我们都已经取得一系列的技术突破。
目前futurrex有数百个技术在美国商标局备案。
futurrex 产品目录
正性光刻胶
增强粘附性正性光刻胶
负性光刻胶
增强粘附性负性光刻胶
---工艺负性光刻胶
用于lift-off工艺的负性光刻胶
非光刻涂层
平坦化，保护、粘接涂层
氧化硅旋涂(spin-on glas)
掺杂层旋涂
辅助化学品
边胶清洗液
显影液
去胶液
futurrex所有光刻产品均无需加增粘剂(hmds)
北京赛米莱德公司-nr9 3000p光刻胶由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司坚持“以人为本”的企业理念，拥有一支高素质的员工队伍，力求提供---的产品和服务回馈社会，并欢迎广大新老客户光临惠顾，真诚合作、共创美好未来。赛米莱德——您可---的朋友，公司地址：北京市北京经济技术开发区博兴九路2号院5号楼2层208，联系人：苏经理。
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
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