光刻胶可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和pcb光刻胶。其中,半导体光刻胶的技术壁垒较高。
从技术水平来看,在pcb领域,国产光刻胶具备了一定的技术和量产能力,已经实现对主流厂商大批量供货。
赛米莱德以诚信为首 ,服务为宗旨。公司生产、销售光刻胶,公司拥有---的销售团队和经营理念。想要了解更多信息,赶快拨打图片上的热线电话!
1、分辨率:区别硅片表---邻图形特性的能力,一般用关键尺寸来衡量 分辨率。形成的关键尺寸越小,光刻胶生产厂家,光刻胶的分辨率越好。
2、对比度:指光刻胶从---区到非---区过渡的陡度。对比度越好,形成图形的侧壁越陡峭,分辨率越好。
3、敏感度:光刻胶上产生一 个---的图形所需一 定波长的小能量值(或小---量)。单位:焦/平方厘米或mj/cm2.光刻胶
的敏感性对于波长更短的深紫外光(duv)、极深紫外光(euv)等尤为重要。
4、粘滞性/黏度:衡量光刻胶流动特性的参数。粘滞性随着光刻胶中的溶剂的减少而增加;高的粘滞性会产生厚的光刻胶;越小的
粘滞性,就有越均匀的光刻胶厚度。
5、粘附性:表征光刻胶粘着于衬底的强度。光刻胶的粘附性不足会导致硅片表面的图形变形。
6、抗蚀性:光刻胶必须保持它的粘附性,在后续的刻蚀i序中保护衬底表面。
7、表面张力:液体---表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。光刻胶应该具有比较小的表面张力,使光刻胶具有---的流动性
8、存储和传送:能量可以启动光刻胶。应该存储在密闭、低温、不透光的盒中。 同时必须规定光刻胶的闲置期限和存贮温度环境。
以上内容由赛米莱德为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助!
光刻胶必须满足几个硬性指标要求:高灵敏度,高对比度,好的蚀刻阻抗性,高分辨力,易于处理,光刻胶哪里有,高纯度,长寿命周期,低溶解度,低成本和比较高的玻璃化转换温度(tg)。主要的两个性能是灵敏度和分辨力。大多数光刻胶是无定向的聚合体。当温度高于玻璃化转换温度,聚合体中相当多的链条片以分子运动形式出现,因此呈粘性流动。当温度低于玻璃化转换温度,链条片段的分子运动停止,聚合体表现为玻璃而不是橡胶。当tg低于室温,光刻胶报价,胶视为橡胶。当tg高于室温,胶被视为玻璃。由于温度高于tg时,聚合体流动容易,于是加热胶至它的玻璃转化温度一段时间进行退火处理,可达到更稳定的能量状态。在橡胶状态,溶剂可以容易从聚合体中去除,如软烘培胶工艺。但此时胶的工作环境需要---关注,当软化胶温度大于tg时,它容易除去溶剂,重庆光刻胶,但也容易混入各种杂质。一般来说,结晶的聚合体不会用来作为胶,因为结晶片的构成阻止均一的各向同性的薄膜的形成。
以上内容由赛米莱德为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助!
光刻胶报价-北京赛米莱德-重庆光刻胶由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。行路致远,---。 北京赛米莱德贸易有限公司(www.semild.com)致力成为与您共赢、共生、共同前行的---,与您一起飞跃,共同成功!
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息,谢谢!
本文链接:https://tztz268482a2.zhaoshang100.com/zhaoshang/210596528.html
关键词: