nr9 3000p光刻胶报价-北京赛米莱德

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    2020-11-13

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nr9-3000pynr9 3000p光刻胶

2,涂胶,在硅片覆盖,旋转,离心力,在硅片表面通过旋转的光刻胶,工艺参数3000-6000rpm 胶膜厚0.5-1um 

3,前烘,通过在较高温度下进行烘焙,使存底表面涂覆的光刻胶膜的溶剂挥发,溶剂将至5%左右,同时增强与衬底的粘附性。前烘方法:热平板传导,干燥循环热风提高附着力,红外线辐射。

烘箱前烘条件:90-100度,10-20min,前烘时间与温度应适当,如太长或温度太高,光刻胶层变脆而附着力下降,而前烘不足会影响后面的显影效果。


光刻胶分类


市场上,光刻胶产品依据不同标准,可以进行分类。依照化学反应和显影原理分类,光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶。使用正性光刻胶工艺,形成的图形与掩膜版相同;使用负性光刻胶工艺,形成的图形与掩膜版相反。

按照感光树脂的化学结构分类,光刻胶可以分为光聚合型,采用烯类单体,在光作用下生成自由基,进一步引发单体聚合,后生成聚合物,具有形成正像的特点;光分解型,采用含有---醌类化合物的材料,nr9 3000p光刻胶多少钱,其经光照后,nr9 3000p光刻胶报价,发生光分解反应,可以制成正性胶;光交联型,采用---月桂酸酯等作为光敏材料,nr9 3000p光刻胶,在光的作用下,形成一种不溶性的网状结构,nr9 3000p光刻胶厂家,而起到抗蚀作用,可以制成负性光刻胶。

按照---波长分类,光刻胶可分为紫外光刻胶(300~450nm)、深紫外光刻胶(160~280nm)、极紫外光刻胶(euv,13.5nm)、电子束光刻胶、离子束光刻胶、x射线光刻胶等。不同---波长的光刻胶,其适用的光刻---分辨率不同,通常来说,在使用工艺方法一致的情况下,波长越小,加工分辨率越佳。



 品牌

 产地

 型号

 厚度

 ---

 应用

 加工

 特性

 futurrex

 美国

 nr71-1000py

 0.7μm~2.1μm

 高温耐受

 用于i线---的负胶

 ledoled、

     显示器、

 mems、

     封装、

     生物芯片等

     金属和介电

     质上图案化,

     不必使用rie

     加工器件的永

    组成

    (oled显示

     器上的间隔

     区)凸点、

     互连、空中

     连接微通道

     显影时形成光刻胶倒

     梯形结构

     厚度范围:

     0.5~20.0 μm

     i、g和h线---波长

     ---

     对生产效率的影响:

     金属和介电质图案化

     时省去干法刻蚀加工

     不需要双层胶技术

 nr71-1500py

  1.3μm~3.1μm

 nr71-3000py

 2.8μm~6.3μm

 nr71-6000py

 5.7μm~12.2μm

 nr9-100py

 0.7μm~2.1μm

 粘度增强

 nr9-1500py

 1.3μm~3.1μm

 nr9-3000py

 2.8μm~6.3μm

 nr9-6000py

 5.7μm~12.2μm

 nr71g-1000py

 0.7μm~2.1μm

 高温耐受

  负胶对  g、h线波长的灵敏度

 nr71g-1500py

 1.3μm~3.1μm

 nr71g-3000py

 2.8μm~6.3μm

 nr71g-6000py

 5.7μm~12.2μm

 nr9g-100py

 0.7μm~2.1μm

 粘度增强

 nr9g-1500py

 1.3μm~3.1μm

 nr9g-3000py

 2.8μm~6.3μm

 nr9g-6000py

 5.7μm~12.2μm

 品牌

 产地

 型号

 厚度

 耐热温度

 应用

 futurrex

 美国

 pr1-500a

 0.4μm~0.9μm




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