11．请教~有没有同时可以满足rie
process 和lift-off
process的光阻，谢谢！
a 我们使用futurrex
nr1-300py来满---上工艺的需求。
12．futurre光刻胶里，有比较容易去除的负光阻吗？
a nr9-系列很容易去除，可以满足去胶需要。
13．我们目前用干膜做窄板，解析度不够，希望找到好的替代光阻？
a nr9-8000因为有---的ar比例，适合取代，在凸块的应用上也有很大的好处。
14．传统的color
filter 制程，每个颜色的烘烤时间要2-3个小时，有没有更快的方法制作coior
filter?
a 用于silylation制程------烘烤时间只需要2分钟，同时光阻不需要reflow， 颜色也不会老化改变，只需要在filter上面加热溶解pr1-2000s光阻，microlenses就能形成！
15．请问有专门为平坦化提供材料的公司吗？
a 美国futurrex公司，专门生产应用化学品的，可以为平坦化的材料提供pc3-6000和pc4-1000都是为平坦化用途设计，台湾企业用的比较多。
16．我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布protective
coating，那种适合？？
a 美国futurrex，pc4-10000。
17．腊是用来固定芯片的，但很难清洗干净，哪里有可以替代的产品介绍下，谢谢？
a 我们公司是使用futurrex
pc3-6000，pr1 1500a1光刻胶价格，可以替代的，而且去除比较容易，你可以---下。
18．请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与mems应用的光刻胶吗？
a nr4-8000p可以做到140微米的厚度，并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题，如果是其他非镀镍衬底nr9-8000p是适合的选择。
19．谁有用在光波导图案的光刻胶？是否可以形成角度为30度的侧壁？
a 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷，nr4-8000p是专门为光波导图案应用进行设计的产品。
正负光刻胶
光刻胶分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，pr1 1500a1光刻胶多少钱，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。正胶的图像与掩模板的图像是一致的，故此叫正胶，利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。
一般来说线宽的用正胶，线窄的用负胶! 正性光刻胶比负性的精度要高，负胶显---图形有涨缩，负性胶---在2~3μm.，而正性胶的分辨力优于0.5μm 导致影响精度，正性胶则无这方面的影响。虽然使用更薄的胶层厚度可以---负性胶的分辨率，但是薄负性胶会影响孔。同种厚度的正负胶，在对于抗湿法和腐蚀性方面负胶---，正胶---。
pr1 1500a1光刻胶哪里有-赛米莱德由 北京赛米莱德贸易有限公司提供。 北京赛米莱德贸易有限公司是一家从事“光刻胶”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，---经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“赛米莱德”品牌拥有------。我们坚持“服务为先，用户”的原则，使赛米莱德在工业制品中赢得了众的客户的---，树立了---的企业形象。 ---说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！
联系我们时请一定说明是在100招商网上看到的此信息，谢谢！
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