rr5光刻胶-北京赛米莱德公司-rr5光刻胶_北京市半导体材料

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pc6-16000

nr9-3000py 相对于其他光刻胶具有如下优势：

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节---能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

nr9-1000py 0.7μm - 2.1μm

nr9-1500py 1.1μm - 3.1μm

nr9-3000py 2.1μm - 6.3μm

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12.2μm

resist thickness

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光刻胶

光刻胶组分及功能

光引发剂

光引发剂吸收光能（辐射能）后经激发生成活性中间体，并进一步引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。

树脂

光刻胶的基本骨架，rr5光刻胶价格，是其中占比较大的组分，主要决定---后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、---前后对溶剂溶解度的变化程度、光学性能、耐老化性、耐蚀刻性、热稳定性等。

溶剂

溶解各组分，是后续聚合反应的介质，rr5光刻胶，另外可调节成膜。

单体

含有可聚合---团的小分子，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，可降低光固化体系粘度并调节光固化材料的各种性能。

4，---

前烘好的存底放在光刻胶衬底放在光刻机上，经与光刻版对准后，进行---，接受光照的光刻胶发生化学变化，形成潜影，

光源与光刻胶相匹配，也就是光源波长在光刻胶的敏感波段；

对准：指光刻板上与衬底的对版标记应准确对准，这样一套光刻版各版之间的图形才能彼此套准。

---时间，rr5光刻胶，由光源强度，光刻胶种类，厚度等决定，

另外，为降低驻波效应影响，可在---后需进行烘焙，称为光后烘焙（peb）

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