光刻胶报价-光刻胶-北京赛米莱德公司

   光刻胶的主要技术参数

1．灵敏度（sensitivity）

灵敏度是衡量光刻胶---速度的指标。光刻胶的灵敏度越高，所需的---剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。

2．分辨率（resolution）

区别硅片表---邻图形特征的能力。一般用关键尺寸（cd，光刻胶厂家，critical dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。

光刻胶的分辨率是一个综合指标，影响该指标的因素通常有如下3个方面：

(1) ---系统的分辨率。

(2) 光刻胶的对比度、胶厚、相对分子等。一般薄胶容易得到高分辨率图形。

(3) 前烘、---、显影、后烘等工艺都会影响光刻胶的分辨率。  

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正性光刻胶的结构

光学光刻胶通常包含以下三种成分：(1)聚合物材料(也称为树脂)。聚合物材料在光的辐照下不发生化学反应，其主要作用是---光刻胶薄膜的附着性和抗腐蚀性，同时也决定着光刻胶薄膜的其他一些特性(如光刻胶的膜厚要求、弹性要求和热稳定性要求等)。(2)感光材料。感光材料一般为复合性物质(简称pac或感光剂)。感光剂在受光辐照之后会发生化学反应。正胶的感光剂在未---区域起抑制溶解的作用，可以减慢光刻胶在显影液中的溶解速度。以正性胶为例，使用g射线和i射线光刻中的正性胶是由---醌(简称为dq)感光剂和酚树脂构成。(3)溶剂(如----，pgme)。溶剂的作用是使光刻胶在涂覆到硅片表面之前保持为液态

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