发布单位: 北京赛米莱德贸易有限公司 发布时间:2022-8-29
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四、对准(alignment)
光刻对准技术是---前的一个重要步骤作为光刻的三大---之一,一般要求对准精度为
受光刻分辨力提高的推动 ,对准技术也经历 迅速而多样的发展 。从对准原理上及标记结 构分类 ,对准技术从早期的投影光刻中的几何成像对准方式 ,包括视频图像对准、双目显微镜对准等,一直到后来的波带片对准方式 、干涉强度对准 、激光外差干涉以及莫尔条纹对准方式 。光刻胶的目标厚度的确定主要考虑胶自身的化学特性以及所要图形中线条的及间隙的微细程度。从对准信号--- ,主要包括标记的显微图像对准 、基于光强信息的对准和基于相位信息对准。
光刻胶
光增感剂
是引发助剂,能吸收光能并转移给光引发剂,或本身不吸收光能但协同参与光化学反应,起到提高引发效率的作用。
光致产酸剂
吸收光能生成酸性物质并使---区域发生酸解反应,用于化学增幅型光刻胶。
助剂
根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。
主要技术参数
分辨率(resolution)
是指光刻胶可再现图形的小尺寸。一般用关键尺寸来(cd,criticaldimension)衡量分辨率。