光刻胶分类

市场上，光刻胶产品依据不同标准，可以进行分类。依照化学反应和显影原理分类，光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶。使用正性光刻胶工艺，形成的图形与掩膜版相同；使用负性光刻胶工艺，形成的图形与掩膜版相反。

按照感光树脂的化学结构分类，光刻胶可以分为光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，进一步引发单体聚合，后生成聚合物，具有形成正像的特点；光分解型，采用含有---醌类化合物的材料，其经光照后,发生光分解反应，可以制成正性胶；为了提高---系统分辨率的性能，futurrex的光刻胶正在研究在---光刻胶的表面覆盖抗反射涂层的新型光刻胶技术。光交联型，采用---月桂酸酯等作为光敏材料，在光的作用下，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，可以制成负性光刻胶。

按照---波长分类，光刻胶可分为紫外光刻胶（300~450nm）、深紫外光刻胶（160~280nm）、极紫外光刻胶（euv，13.5nm）、电子束光刻胶、离子束光刻胶、x射线光刻胶等。不同---波长的光刻胶，其适用的光刻---分辨率不同，通常来说，在使用工艺方法一致的情况下，波长越小，加工分辨率越佳。彩色薄膜少了光刻胶，产生不了绚丽的画面显示器是人与机器沟通的重要界面。

光刻胶市场

全球光刻胶市场扩增，对光刻胶的总需求不断提升。据估计，2015年国际光刻胶市场达73.6亿美元，其中pcb光刻胶占比24.5%，lcd光刻胶占26.6%，半导体光刻胶占比24.1%。2010年到2015年期间，国际光刻胶市场年复合增长率约为5.8%；据产业---数据，2015年，pcb光刻胶、lcd光刻胶和半导体光刻胶的国际市场增速均在5%左右。在下游产业的带动下，江瀚咨询预计国际光刻胶市场规模在2022年可能突破100亿美元。显示器，oleds，波导(waveguides)，vcsels，成像，电镀，纳米碳管，微流体，芯片倒装等方面。

光刻胶

按感光树脂的化学结构，光刻胶可分为光聚合型光刻胶、光分解型光刻胶和光交联型光刻胶。在应用中，采用不同单体可以形成正、负图案，并可在光刻过程中改变材料溶解性、抗蚀性等。

光聚合型光刻胶

烯类，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合。

光分解型光刻胶

---醌类化合物，经光照后,会发生光分解反应，由油溶性变为水溶性。

光交联型光刻胶

---月桂酸酯，在光的作用下,分子中的双键打开，链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构从而起到抗蚀作用。

按---波长，光刻胶可分为紫外（300~450 nm）光刻胶、深紫外（160~280 nm）光刻胶、极紫外（euv，13.5 nm）光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、x 射线光刻胶等。

按应用领域，光刻胶可分为pcb 光刻胶、lcd 光刻胶、半导体光刻胶等。pcb 光刻胶技术壁垒相对其他两类较低，而半导体光刻胶代表着光刻胶技术的水平。