发布单位: 北京赛米莱德贸易有限公司 发布时间:2022-5-18
光刻胶
nr9-1000py
问题回馈:
1.我们是led制造商,麻烦几款可以用于离子蚀刻和lift-off工艺的光刻胶。
a 据我所知,futurrex
有几款胶很,nr7-1500p
nr7-3000p是专门为离子蚀刻
设计的,nr9-3000py可以用于lift-off上的应用。
2.请问有没有可以替代goodpr1518,micropure去胶液和goodpr显影液的产品?
a 美国光刻胶,futurrex
正胶pr1-2000a
, 去胶液rr4,和显影液rd6可以解决以上问题。
3.你们是否有可以替代shipley
s1805的用于dvd的应用产品?
a 我们建议使用futurrex
pr1-500a , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,
反射比较少,不需要hmds,rie后去除容易等~
4. 求助,耐高温的光阻是那一种?
a futurrex, nr7 serious(负光阻)orpr1 serious(正光阻),再经过hmcts
silyiation process,可以达到耐高温200度,pspi透明polyimide,可耐高温250度以上。
5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较理想?
a futurrex , nr4-8000p比干膜,和其他市面上的湿膜适合,和理想。
6.请教lift-off制程哪一种光阻适合?
a 可以考虑使用futurrex
,正型光阻pr1,负型光阻用nr1&nr7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作pattern的光阻。
7.请问,那位知道,rie
mask,用什么光阻比较好?
a 正型光阻用pr1系列,负型光阻使用nr5,两种都可以耐高温180度。
8.一般厚膜制程中,哪一种光阻适合?
a nr9-8000p有---的深宽比(超过4:1),一般厚膜以及,mems产品的高需求。
9.在deep
rie和mask 可以使用nrp9-8000p吗?
a 建议不使用,因为使用nr5-8000理想和适合。
10.我们是oled,我们有一种制程上需要一层spacer,那种光阻适合?
a 有一种胶很适合,美国futurrex
生产的nr1-3000py
and和
nr1-6000py,都适合在oled制程中做spacers